▲聯華電子在使用USB 2.0測試載具首次並成功通過矽驗證之後，今(12/2)日正式宣布更先進的22奈米製程技術就緒。（圖／聯華電子提供）


【亞太新聞網／財經新聞中心／中科報導】

聯華電子在使用USB 2.0測試載具首次並成功通過矽驗證之後，今(12/2)日正式宣布更先進的22奈米製程技術就緒。聯華電子表示，該公司22奈米製程平台擁有基礎元件IP支援，為市場上各種半導體應用，包括消費性電子的機上盒、數位電視、監視器、電源或漏電敏感的物聯網晶片（附帶藍牙或WiFi）和需要較長電池壽命可穿戴式產品的理想選擇。

聯華電子表示，相較於一般的USB 2.0 PHY IP，用於驗證的USB測試載具所使用面積為全球最小，實際展現聯電堅實的22奈米製程成熟度；新的晶片設計可使用22奈米設計準則或遵循28奈米到22奈米的轉換流程 (Porting Methodology)，無需更改現有的28奈米設計架構，因此客戶可放心地使用新的晶片設計或直接從28奈米移轉到更先進的22奈米製程。

聯華電子矽智財研發暨設計支援處陳元輝處長表示：「聯電致力於提供世界領先的晶圓專工特殊技術，並持續推出新的特殊製程技術，用以服務於5G、物聯網和車用的快速增長晶片市場。我們很高興能為客戶推出極具競爭力的22奈米製程技術，主要提昇性能、面積和易於設計的先進技術。」